Applied Nanotech Holdings annuncia il lancio ufficiale dei nuovi sistemi che fanno uso di “inchiostri solari”. La cerimonia di presentazione, che avverrà il 6 Maggio, si terrà presso le nuove fabbriche Applied Nanotech e comprenderà interventi del relatore Lloyd Doggett, del sindaco della città di Austin, Lee Leffingwell e di numerosi altri esperti.
Applied Nanotech Holdings annuncia il lancio ufficiale dei nuovi sistemi che fanno uso di “inchiostri solari”. La cerimonia di presentazione, che avverrà il 6 Maggio, si terrà presso le nuove fabbriche Applied Nanotech e comprenderà interventi del relatore Lloyd Doggett, del sindaco della città di Austin, Lee Leffingwell e di numerosi altri esperti.
Le nanoparticelle sviluppate da Applied Nanotech comprendono formulazioni di inchiostro basate su materiali quali alluminio, rame, nichel e argento. Questa struttura chimica verrà applicata sfruttando aerosol a getto, getto d'inchiostro e altri metodi di verniciatura a spruzzo, oppure sfruttando sistemi di stampa senza contatto. In questo modo, lo strato ultrasottile di wafer di silicio potrà essere impiegato per applica fotovoltaiche.
Allo stato attuale, i wafer che compongono le celle solari devono essere abbastanza spessi e resistenti per poter subire i trattamenti di metallizzazione utilizzati nel processo di stampa a contatto diretto.
Nella realizzazione di celle solari “tradizionali”, il silicio costituisce la parte più costosa, che rappresenta il materiale basilari per la produzione stessa e costituisce il 50%-60% del costo totale. Tuttavia, utilizzando metodi a base di “inchiostri solari” e sfruttando il sistema di applicazione a getto o a spruzzo, è possibile generare pannelli estremamente sottili. Riducendo l’effettivo spessore della cella e del pannello si può così ridurre la quantità di silicio effettivamente utilizzata, abbattendo anche i costi di produzione.
I wafer saranno di fatto ultrasottili, dato che non sarà più necessario costruire strutture robuste per la stampa a contatto diretto. La stesura del materiale avviene infatti in modo indiretto, senza contatto. Utilizzando inchiostri a nanoparticelle e metodi di stampa a getto, Applied Nanotech getta le basi per una trasformazione profonda del settore, contribuendo all’introduzione di wafer solari sottili ad alto rendimento.
Per poter portare a termine questo progetto pilota, nel 2010, Applied Nanotech ha ricevuto un finanziamento federale di 1,6 milioni di Dollari, stanziamento che si è dimostrato determinante per accelerare il processo di realizzazione e verifica sul campo. Ad oggi, la società ha aggiunto circa 371 m2 ai propri 1.486 m2 di superficie solare, presso l’impianto di Austin in Texas.
La nuova estensione consente alla società di sviluppare e realizzare prototipi tramite inchiostri metallici stampati su celle solari di silicio sottile. Oltre al notevole impatto in termini di abbattimento dei costi, la disponibilità della rinnovata struttura e l’affacciarsi di questa nuova tecnologia permetteno di incrementare il numero di posti di lavoro diretti e dell’indotto.